0181160 - UFCH-W 20010071 RIV US eng J - Článek v odborném periodiku
Steckel, J. A. - Phung, T. - Jordan, K. D. - Nachtigall, Petr
Concerted Use of Slab and Cluster Models in an ab initio Study of Hydrogen Desorption from the Si(100) Surface.
Journal of Physical Chemistry. B. Roč. 105, č. 18 (2001), s. 4031-4038. ISSN 1089-5647
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z4040901
Klíčová slova: silicon * surface * hydrogen
Kód oboru RIV: CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
Impakt faktor: 3.379, rok: 2001
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0077754