IR Laser Induced Decomposition of 2-chloroethenylsilane for Chemical Vapour Deposition of Si/C Phases

Počet záznamů: 1

SYSNO ASEP	0179962
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	IR Laser Induced Decomposition of 2-chloroethenylsilane for Chemical Vapour Deposition of Si/C Phases
Tvůrce(i)	Santos, M. (ES) Diaz, L. (ES) Bastl, Zdeněk (UFCH-W)_{RID, ORCID} Hulínský, V. (CZ) Urbanová, Markéta (UCHP-M)_{RID, SAI} Vítek, Josef (UFCH-W) Pola, Josef (UCHP-M)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Journal of Materials Chemistry. - : ROYAL SOC CHEMISTRY - ISSN 0959-9428 Roč. 6, č. 6 (1996), s. 975-981
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	GB - Velká Británie
CEP	IAA4072509 GA AV ČR - Akademie věd
Pracoviště	Ústav fyzikální chemie J.Heyrovského
Kontakt	Michaela Knapová, michaela.knapova@jh-inst.cas.cz, Tel.: 266 053 196
Rok sběru	1997

Počet záznamů: 1