Počet záznamů: 1
Influence of the additional RF discharge on the properties of carbon nitride thin films deposited by PLD
SYS 0134067 LBL 00000nam^^22^^^^^^^^450 005 20240103174311.1 010 $a 0-8194-4528-2 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Influence of the additional RF discharge on the properties of carbon nitride thin films deposited by PLD 215 $a 7 s. 463 -1
$1 011 $a 0277-786X $1 200 1 $a Advanced Laser Technologies $v s. 118-124 $1 210 $a Bellingham $c SPIE International Society for Optical Engineering $d 2002 $1 225 1 $a Proceedings of SPIE. $v 4762 $1 702 1 $a Dimitras $b D.C. $4 340 $1 702 1 $a Dinescu $b M. $4 340 $1 702 1 $a Konov $b V.I. $4 340 610 1-
$a carbon nitride thin films 610 1-
$a PLD 610 1-
$a RF discharge 700 -1
$3 cav_un_auth*0100346 $a Lančok $b Ján $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100418 $a Novotný $b Michal $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100150 $a Bulíř $b Jiří $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100260 $a Jelínek $b Miroslav $p FZU-D $w Optical and Biophysical Systems $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0102978 $a Zelinger $b Zdeněk $p UFCH-W $w Spectroscopy $4 070 $T Ústav fyzikální chemie Jaroslava Heyrovského AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1