Deposition of Er:YAG (YAP) layers by subpicosecond and nanosecond KrF excimer laser ablation

Počet záznamů: 1

SYSNO ASEP	0134007
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	Deposition of Er:YAG (YAP) layers by subpicosecond and nanosecond KrF excimer laser ablation
Tvůrce(i)	Jelínek, Miroslav (FZU-D)_{RID, ORCID} Klini, A. (GR) Grivas, Ch. (GR) Lančok, Ján (FZU-D)_{RID, ORCID} Studnička, Václav (FZU-D)_RID Chval, Jindřich (FZU-D) Macková, Anna (UJF-V)_{RID, ORCID, SAI} Fotakis, C. (GR)
Zdroj.dok.	Applied Surface Science. - : Elsevier - ISSN 0169-4332 197-198, - (2002), s. 416-420
Poč.str.	5 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	NL - Nizozemsko
Klíč. slova	thin films ; subpicosecond laser ; pulsed laser deposition ; Er:YAG ; Er:YAP
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Anotace	Thin films of Er:YAG and ER:YAP were deposited by picosecond (450fs) and nanosecond (20ns) KrF laser (lambda=248 nm) on YAG, YAP, fused silica, silicon and sapphire substrates.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2003

Počet záznamů: 1