Počet záznamů: 1
Deposition conditions and composition and structure relationships for nitride carbon films obtained by ECR plasma-assisted CVD and reactive rf magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0133304 Název Deposition conditions and composition and structure relationships for nitride carbon films obtained by ECR plasma-assisted CVD and reactive rf magnetron sputtering Tvůrce(i) Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Soukup, Ladislav (FZU-D)
Shaginyan, L. R. (UA)
Onoprienko, A. A. (UA)Zdroj.dok. Surface and Coatings Technology. Roč. 123, - (2000), s. 261-267. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant IAA1010827 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Jazyk dok. eng Země vyd. NL Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0031283
Počet záznamů: 1