CN.sub.x./sub.H.sub.y./sub. films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism

Name: CN.sub.x./sub.H.sub.y./sub. films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism
Availability: OutOfStock

Shaginyan, L. R.; Fendrych, František; Jastrabík, Lubomír; Soukup, Ladislav; Kulikovsky, V. Yu.; Musil, Jindřich

Počet záznamů: 1

CN.sub.x./sub.H.sub.y./sub. films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism

1.

SYSNO ASEP	0132805
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Ostatní články
Název	CN_xH_y films obtained by ECR plasma activated CVD: the role of substrate bias (DC, RF) and some other deposition parameters in growth mechanism
Tvůrce(i)	Shaginyan, L. R. (UA) Fendrych, František (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID} Soukup, Ladislav (FZU-D) Kulikovsky, V. Yu. (UA) Musil, Jindřich (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972 116/119, - (1999), s. 65-73
Poč.str.	9 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	CH - Švýcarsko
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEP	IAA1010827 GA AV ČR - Akademie věd
CEZ	AV0Z1010914 - FZU-D
Anotace	The composition, optical and mechanical propertiesf the CNxHy films deposited at various process conditions were investigated by electron microprobe analysis, IR spectroscopy and microhardness measurements.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2001

Počet záznamů: 1