Počet záznamů: 1
Low defect density microcrystalline-Si deposited by the hot wire technique
- 1.
SYSNO 0132305 Název Low defect density microcrystalline-Si deposited by the hot wire technique Tvůrce(i) Mahan, A. H. (US)
Vaněček, Milan (FZU-D) RID
Poruba, Aleš (FZU-D) RID
Vorlíček, Vladimír (FZU-D) RID
Crandall, R. S. (US)
Williamson, D. L. (US)Zdroj.dok. Aporphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998. s. 825-830 / Schropp R. ; Branz H. M. ; Hack M. ; Shimizu I. ; Wagner S.. - Warrendale, Pennsylvania : Materials Research Society, 1998 ISBN 1-55899-427-1 Konference Amorphous and Microcrystalline Silicon Technology-1998, San Francisco, 14.04.1998-17.04.1998 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant OK 268 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy DE-ACO283CH 10093, DE - Německo Jazyk dok. eng Země vyd. US Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0030336
Počet záznamů: 1