Počet záznamů: 1  

The structure of Cu-Al films prepared by unbalanced DC magnetron sputtering

  1. SYS0132083
    LBL
      
    00000nam^^22^^^^^^^^450
    005
      
    20240903114630.1
    101
    0-
    $a eng
    102
      
    $a CH
    200
    1-
    $a The structure of Cu-Al films prepared by unbalanced DC magnetron sputtering
    463
    -1
    $1 001 cav_un_epca*0257628 $1 011 $a 0257-8972 $e 1879-3347 $1 200 1 $a Surface and Coatings Technology $v Roč. 96, - (1997), s. 359-363 $1 210 $c Elsevier
    700
    -1
    $3 cav_un_auth*0100398 $a Musil $b Jindřich $p FZU-D $w Fabrication and Analysis of Functional Materials $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0100134 $a Bell $b Albert J. $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0038376 $a Čepera $b M. $y CZ $4 070
    701
    -1
    $3 cav_un_auth*0018366 $a Zeman $b J. $y CZ $4 070

Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.