Počet záznamů: 1
Inductively-coupled-plasma assisted planar magnetron discharge for enhanced ionization of sputtered atoms
- 1.
SYSNO ASEP 0132071 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Ostatní články Název Inductively-coupled-plasma assisted planar magnetron discharge for enhanced ionization of sputtered atoms Tvůrce(i) Setsuhara, Y. (JP)
Kamai, M. (JP)
Miyake, S. (JP)
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Japanese Journal of Applied Physics. - : Institute of Physics Publishing - ISSN 0021-4922
Roč. 36, 7B (1997), s. 4568-4571Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. JP - Japonsko Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 1999
Počet záznamů: 1