Počet záznamů: 1
Depth inhomogenity of deposited thin films: Applications to semi-insulating polycrystalline silicon films
- 1.
SYSNO 0131738 Název Depth inhomogenity of deposited thin films: Applications to semi-insulating polycrystalline silicon films Tvůrce(i) Kučírková, A. (CZ)
Navrátil, K. (CZ)
Zemek, Josef (FZU-D) RID, ORCIDZdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 323, - (1998), s. 53-58. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant IAA1010609 GA AV ČR - Akademie věd Jazyk dok. eng Země vyd. NL Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0029787
Počet záznamů: 1