Počet záznamů: 1  

Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing

  1. 1.
    Franclová, J., Kučerová, V., Burčíková, V., Zajíčková, L., Peřina, V. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing. Czechoslovak Journal of Physics. 2004, 54(9), C847-852. ISSN 0011-4626.
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.