Počet záznamů: 1
Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing
- 1.Franclová, J., Kučerová, V., Burčíková, V., Zajíčková, L., Peřina, V. Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing. Czechoslovak Journal of Physics. 2004, 54(9), C847-852. ISSN 0011-4626.
Počet záznamů: 1