Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd).sub.3./sub. and Zr(thd).sub.4./sub

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0100075
Název	Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)₃ and Zr(thd)_4./sub
Překlad názvu	Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)₃ and Zr(thd)_4./sub
Tvůrce(i)	Fulem, Michal (FZU-D)_{RID, ORCID} Růžička, K. (CZ) Růžička, V. (CZ) Šimeček, Tomislav (FZU-D) Hulicius, Eduard (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Pangrác, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Journal of Crystal Growth. Roč. 264, - (2004), s. 192-200. - : Elsevier
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	KSK1010104 GA AV ČR - Akademie věd
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	NL
Klíč.slova	static method * vapour pressure * metalorganic chemical vapor deposition * Y and Zr precursors * .alpha.-diketonate complexes
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0007582

Počet záznamů: 1