Počet záznamů: 1
Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd).sub.3./sub. and Zr(thd).sub.4./sub
SYS 0100075 LBL 02033^^^^^2200337^^^450 005 20210803154410.1 100 $a 20050420d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256941 $1 011 $a 0022-0248 $e 1873-5002 $1 200 1 $a Journal of Crystal Growth $v Roč. 264, - (2004), s. 192-200 $1 210 $c Elsevier 541 1-
$a Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub $z cze 610 0-
$a static method 610 0-
$a vapour pressure 610 0-
$a metalorganic chemical vapor deposition 610 0-
$a Y and Zr precursors 610 0-
$a .alpha.-diketonate complexes 700 -1
$3 cav_un_auth*0107494 $a Fulem $b Michal $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0016200 $a Růžička $b K. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0016201 $a Růžička $b V. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0100554 $a Šimeček $b Tomislav $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100250 $a Hulicius $b Eduard $p FZU-D $w Semiconductors $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100432 $a Pangrác $b Jiří $p FZU-D $w Semiconductors $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Počet záznamů: 1