Quantitative depth profiling of K-doped fullerene films using XPS and SIMS

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0031295
Název	Quantitative depth profiling of K-doped fullerene films using XPS and SIMS
Tvůrce(i)	Oswald, S. (DE) Janda, Pavel (UFCH-W)_{RID, ORCID} Dunsch, L. (DE)
Zdroj.dok.	Microchimica Acta. Roč. 141, 1-2 (2003), s. 79-85. - : Springer
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
CEZ	AV0Z4040901 - UFCH-W
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	AT
Klíč.slova	XPS * SIMS * depth profiling * fullerenes * doping
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0132039

Počet záznamů: 1