Počet záznamů: 1  

Si3Nx fázová destička pokrytá vodivou vrstvou

  1. 1.
    SYSNO0566394
    NázevSi3Nx fázová destička pokrytá vodivou vrstvou
    Překlad názvuSi3Nx phase plates covered by conductive layer
    Tvůrce(i) Sháněl, O. (CZ)
    Schneider, M. (CZ)
    Řiháček, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID
    Radlička, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Vyd. údaje2022
    PoddruhFunkční vzorek
    Int.kódAPL-2022-15
    Technické parametryKřemíkový čip nesoucí tenkou nitridovou membránu, která je pokrytá tenkou vodivou molybdenovou vrstvou. Otvor membrány je čtvercového tvaru o rozměru 100×100 µm. Z membrány je vytvořena fázová destička tím, že je v jejím středu udělaný otvor optimalizovaných rozměrů pomoci technologie fokusovaného iontového svazku. Tloušťka molybdenové vrstvy je optimalizovaná pro výsledný fázový posuv pi/2. Součástí funkčního vzorku je modifikovaný držák apertur, který umožňuje její umístění do zadní ohniskové roviny transmisního elektronového mikroskopu.
    Ekonomické parametryFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Mgr. Tomáš Radlička, Ph.D.
    Název vlastníkaÚstav přístrojové techniky, v. v. i., ThermoFisher Scientific Brno, a.s.
    Číselná identifikaceAPL-2022-15
    Druh dok.Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova transmission electron microscopy * phase plate * silicon nitride * thin layers
    Spolupracující instituce ThermoFisher Scientific Brno (Česká republika)
    Trvalý linkhttps://hdl.handle.net/11104/0337734
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.