Direct measurements of the ion flux at the substrate in reactive HiPIMS

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0464208
Název	Direct measurements of the ion flux at the substrate in reactive HiPIMS
Tvůrce(i)	Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Lundin, D. (FR) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	International Conference on Plasma Surface Engineering. Abstracts. ( PSE 2016 ) /15./. S. 415-415. - Braunschweig : European Joint Committee on Plasma and Ion Surface Engineering (EJC / PISE), 2016
Konference	International Conference on Plasma Surface Engineering ( PSE 2016 ), 12.09.2016 - 16.09.2016, Garmisch-Partenkirchen
Druh dok.	Abstrakt
Grant	GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
	608800, XE - země EU
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	DE
Klíč.slova	HiPIMS * impedance * ion flux * reactive sputtering
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0263191

Počet záznamů: 1