Počet záznamů: 1
Semiconducting WO.sub.3./sub. thin films prepared by pulsed reactive magnetron sputtering
SYS 0454787 LBL 03100^^^^^2200433^^^450 005 20240103211707.2 014 $a 84924692431 $2 SCOPUS 014 $a 000365743300009 $2 WOS 017 70
$a 10.1007/s11164-015-1991-8 $2 DOI 100 $a 20160114d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a NL 200 1-
$a Semiconducting WO3 thin films prepared by pulsed reactive magnetron sputtering 215 $a 8 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0254895 $1 011 $a 0922-6168 $e 1568-5675 $1 200 1 $a Research on Chemical Intermediates $v Roč. 41, č. 12 (2015), s. 9259-9266 $1 210 $c Springer 610 0-
$a WO3 610 0-
$a water splitting 610 0-
$a HIPIMS 610 0-
$a photoanodes 700 -1
$3 cav_un_auth*0076487 $4 070 $a Brunclíková $b M. $y CZ 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Hubička $b Zdeněk $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Kment $b Štěpán $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Olejníček $b Jiří $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Čada $b Martin $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $w Low-Temperature Plasma $4 070 $a Kšírová $b Petra $p FZU-D $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015740 $4 070 $a Krýsa $b J. $y CZ
Počet záznamů: 1