Počet záznamů: 1  

Kalibrační standard pro metodu spektroskopii sekundárních elektronů v SEM

  1. 1.
    SYSNO ASEP0566540
    Druh ASEPL - Prototyp, funkční vzorek
    Zařazení RIVG - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
    Poddruh RIVFunkční vzorek
    NázevKalibrační standard pro metodu spektroskopii sekundárních elektronů v SEM
    Překlad názvuCalibration standard sample for secondary electron spectroscopy in SEM
    Tvůrce(i) Mika, Filip (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Pokorná, Zuzana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Rok vydání2022
    Int.kódAPL-2022-11
    Technické parametryKalibrační vzorek obsahující mikrometrové struktury s různých materiálů vykazující odlišnou emisivitu sekundárních elektronů. Tloušťka jednotlivých materiálů je 150um a šířka proužků ze stříbra a chromu je 2 respektive 1 um.
    Ekonomické parametryFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu, s předpokladem smluvního využití s vědeckým a ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Filip Mika, Ph.D.
    Název vlastníkaÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    IČ vlastníka68081731
    Kat.výsl.dle nákl.A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Požad. na licenč. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vlastníkaCZ - Česká republika
    Klíč. slovatest sample ; scanning electron microscope ; secondary electron spectrometer
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECDMaterials engineering
    CEPTN01000008 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    AnotaceVzorek s litografickou strukturou bude sloužit ke kalibraci metody spektroskopie sekundárních elektronů s nanometrovým rozlišením v SEM. Bude obsahovat přesně definované oblasti jak plošně, tak do hloubky. Materiál oblastí bude volen tak, aby bylo možné nastavit parametry analýzy a snadno úhlově a energiově rozlišit získaný signál sekundárních elektronů.
    Překlad anotaceThe sample with a dedicated structure fabricated by electron beam lithography will be used in SEM for the calibration of nanometre-resolution secondary electron spectroscopy. It will contain areas of a precisely defined depth, width and materials composition allowing the observer to fine-tune the parameters of the analysis and easily resolve the secondary electron signal both in energy and angle.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2023
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.