Počet záznamů: 1  

Changes of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface

  1. 1.
    SYSNO ASEP0548925
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevChanges of morphological, optical and electrical properties induced by hydrogen plasma on (0001) ZnO surface
    Tvůrce(i) Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
    Ukraintsev, Egor (FZU-D) RID, ORCID
    Sharma, Dhananjay K. (FZU-D) ORCID
    Buryi, Maksym (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Szabó, Ondrej (FZU-D) ORCID, RID
    Kuliček, J. (CZ)
    Rezek, B. (CZ)
    Poruba, A. (CZ)
    Míčová, J. (SK)
    Shu Hsu, H. (TW)
    Celkový počet autorů13
    Číslo článku2100427
    Zdroj.dok.Physica Status Solidi A : Applications and Materials Science. - : Wiley - ISSN 1862-6300
    Roč. 219, č. 16 (2022)
    Poč.str.7 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovaZnO ; plasma ; XPS ; AFM ; PL
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPEF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GC19-02858J GA ČR - Grantová agentura ČR
    Výzkumná infrastrukturaCzechNanoLab - 90110 - Vysoké učení technické v Brně
    Způsob publikováníOpen access s časovým embargem (01.08.2023)
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000720624700001
    EID SCOPUS85119439391
    DOI10.1002/pssa.202100427
    AnotacePlasma provides specific adjustment of solid-state surface properties offering an alternative to high temperature treatment. In this work, hydrogen plasma treatment of monocrystalline (0001) ZnO surface is studied in an inductively coupled plasma (ICP) reactor with reduced capacitively coupled plasma mode. We explain the crucial role of electrical grounding of the sample holder for plasma etching and related changes in the morphology, optical and electrical properties of surfaces exposed to electron and ion bombardment. The effects on the chemical composition of the surface are analyzed by (XPS), optical properties by photoluminescence spectroscopy, topography, roughness and surface potential by atomic force microscopy (AFM) and Kelvin probe force microscopy (KPFM). All methods show altered ZnO surface properties before and after plasma treatment strongly depending on the electrical potential of the holder.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2023
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1002/pssa.202100427
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.