Počet záznamů: 1  

Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek

  1. 1.
    SYSNO0507953
    NázevPřívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek
    Překlad názvuGas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates
    Tvůrce(i) Průcha, Lukáš (UPT-D) ORCID
    Piňos, Jakub (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Sýkora, Jiří (UPT-D)
    Materna Mikmeková, Eliška (UPT-D) ORCID, RID, SAI
    Vyd. údaje2019
    PoddruhFunkční vzorek
    Int.kódAPL-2019-04
    Technické parametryFunkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece.
    Ekonomické parametryFunkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz
    Název vlastníkaÚstav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
    Číselná identifikaceAPL-2019-04
    Druh dok.Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova gas supplies * methane * hydrogen * CVD * graphene
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0298928
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.