Počet záznamů: 1
Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek
- 1.
SYSNO ASEP 0507953 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Přívod plynů do CVD zařízení pro přípravu grafenových podložek Překlad názvu Gas supplies for CVD device for the preparation of graphene based substrates Tvůrce(i) Průcha, Lukáš (UPT-D) ORCID
Piňos, Jakub (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Sýkora, Jiří (UPT-D)
Materna Mikmeková, Eliška (UPT-D) ORCID, RID, SAICelkový počet autorů 4 Rok vydání 2019 Int.kód APL-2019-04 Technické parametry Funkční vzorek se skládá z nerezové trubice, příruby s vývodem, 3 ventilů, 2 průtokoměrů, 2 elektromagnetických zámků, 2 plynových filtrů, tenké ocelové trubičky, kabelů na propojení s PC, 2 plynových bomb a CVD pece. Ekonomické parametry Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Lukáš Průcha, prucha@isibrno.cz Název vlastníka Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68081731 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Požad. na licenč. popl. N - Poskytovatel licence nepožaduje licenční poplatek Číselná identifikace APL-2019-04 Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova gas supplies ; methane ; hydrogen ; CVD ; graphene Vědní obor RIV JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika Obor OECD Coating and films CEP TG03010046 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora UPT-D - RVO:68081731 Anotace Funkční vzorek byl navržen v rámci řešení projektu Podložky na bázi grafenu modifikované elektronovým svazkem pro LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) a otestován na CVD grafenu vyráběném pro tento projekt. Přesné a bezpečné dávkování plynů do CVD pece je u přípravy grafenu velmi důležitý parametr. Je nutné zajistit velmi přesné dávkování výbušných a hořlavých plynů. Díky našemu řešení pro dávkování těchto nebezpečných plynů, připevněné k našemu prototypovému CVD reaktoru, jsme schopni dávkovat tyto plyny přímo do CVD reaktoru nejen bezpečně ale i s velkou přesností průtoku. Díky tomu jsme schopni velmi efektivně upravovat vstupní parametry experimenty během grafenového růstu. Navíc je díky našemu návrhu velmi jednoduché a bezpečné používané plyny vyměnit za jiné. Překlad anotace The functional sample was designed within the project Electron beam treated graphene based substrates for LV STEM (TAČR GAMA TG03010046) and tested on CVD graphene produced for this project. Accurate and safe dosing of gases into the CVD furnace is a very important parameter in the preparation of graphene. It is necessary to ensure very accurate dosing of explosive and flammable gases. With our solution for dispensing these hazardous gases attached to our prototype CVD reactor, we are able to dispense these gases directly into the CVD reactor not only safely but also with great precision. As a result, we are able to very efficiently adjust input parameters by experiments during graphene growth. In addition, our design makes it very simple and safe to replace used gases for different ones. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2020
Počet záznamů: 1