Počet záznamů: 1  

Influence of GaN buffer layer under InGaN/GaN MQWs on luminescent properties

  1. 1.
    SYSNO ASEP0505794
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevInfluence of GaN buffer layer under InGaN/GaN MQWs on luminescent properties
    Tvůrce(i) Dominec, Filip (FZU-D) RID, ORCID
    Hospodková, Alice (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Hubáček, Tomáš (FZU-D) ORCID
    Zíková, Markéta (FZU-D) RID
    Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kuldová, Karla (FZU-D) RID, ORCID
    Vetushka, Aliaksi (FZU-D) RID, ORCID
    Hulicius, Eduard (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů8
    Zdroj.dok.Journal of Crystal Growth. - : Elsevier - ISSN 0022-0248
    Roč. 507, Feb (2019), s. 246-250
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovalow dimensional structures ; V-pits ; metalorganic vapor phase epitaxy ; InGaN/GaN quantum wells ; GaN buffer layer ; scintillators
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPLO1603 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GA16-15569S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000455667500041
    EID SCOPUS85057497030
    DOI10.1016/j.jcrysgro.2018.11.025
    AnotaceAlthough InGaN layers or InGaN/GaN superlattices are commonly used as efficiency improving buffers for LED structure production, there is still a controversy and active discussion about the mechanisms improving the luminescence properties of InGaN QWs grown above such buffers. In this manuscript it is shown that presence of In in the buffer layer is not the primary reason for photoluminescence improvement which can be also achieved by introduction of GaN buffer layer grown at lower temperature under nitrogen atmosphere. SIMS analysis suggests that low temperature buffer layer does not influence the impurity incorporation and hence the PL improvement is caused by suppressed contamination of MQW region grown above the low temperature buffer. AFM images for two samples that differ mostly in morphology however supports another explanation in which formation of larger V-pits is the main reason for the luminescence improvement.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2020
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2018.11.025
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.