Počet záznamů: 1  

Polycrystalline diamond films for optical and photonic applications

  1. 1.
    SYSNO ASEP0496538
    Druh ASEPA - Abstrakt
    Zařazení RIVZáznam nebyl označen do RIV
    Zařazení RIVNení vybrán druh dokumentu
    NázevPolycrystalline diamond films for optical and photonic applications
    Tvůrce(i) Varga, Marián (FZU-D) RID, ORCID
    Ondič, Lukáš (FZU-D) RID, ORCID
    Hruška, Karel (FZU-D) RID, ORCID
    Fait, Jan (FZU-D) ORCID
    Domonkos, Mária (FZU-D) RID
    Prajzler, V. (CZ)
    Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů9
    Zdroj.dok.NANOCON 2017 - Book of Abstracts. - Ostrava : Tanger Ltd, 2017 / Shrbená J. - ISBN 978-80-87294-78-9
    Poč.str.1 s.
    AkceNANOCON 2017. International Conference on Nanomaterials - Research & Application /9./
    Datum konání18.10.2017 - 20.10.2017
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovadiamond film ; optical elements
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    CEPGJ16-09692Y GA ČR - Grantová agentura ČR
    LD15003 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceSynthetic polycrystalline diamond films are routinely grown over the world not only for basic research but also for industrial uses in many different fields including optics and photonics. Optically tailored diamond films are usually grown by microwave plasma chemical vapor deposition (MWCVD) reactors. Here we will present two unique MWCVD reactors for diamond films synthesis: i) focused MW plasma with ellipsoidal cavity resonator and ii) pulsed MW plasma with linear antenna arrangement. Both these CVD reactors can be operated in complementary process parameters, i.e. high vs. low pressure (10 kPa vs. 10 Pa), high vs. low substrate temperature (900 °C vs. 250 °C) or small vs. large deposition area (9 cm2 vs. 600 cm2). Moreover, they offer a broad variety of complementary deposition conditions which allow us to grow diamond films of required properties (pure intrinsic vs. containing optically active color centers) on flat, 3D and periodically structured substrates.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2019
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.