Počet záznamů: 1  

Growth of Escherichia coli on nanocrystalline diamond

  1. 1.
    SYSNO ASEP0457498
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevGrowth of Escherichia coli on nanocrystalline diamond
    Tvůrce(i) Jurková, Blanka (FZU-D)
    Kozak, Halyna (FZU-D) RID, ORCID
    Artemenko, Anna (FZU-D) RID, ORCID
    Ukraintsev, Egor (FZU-D) RID, ORCID
    Beranová, J. (CZ)
    Konopásek, I. (CZ)
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.NANOCON 2015: 7th International Conference on Nanomaterials - Research and Application, Conference Proceedings. - Ostrava : TANGER, spol. s r.o., 2015 - ISBN 978-80-87294-63-5
    Rozsah strans. 489-494
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníNosič - C
    AkceNANOCON 2015. International Conference /7./
    Datum konání14.10.2015 - 16.10.2015
    Místo konáníBrno
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovananocrystalline diamond ; bacteria ; Escherichia coli ; anti-adhesive ; CDC Bioreactor
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    Obor OECDCondensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
    CEPGA15-01687S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000374708800086
    EID SCOPUS84962910744
    AnotaceIn this contribution, we compared the attachment of gram-negative model bacterium Escherichia coli to
    uncoated glass and glass coated by hydrogenated and oxidized NCD films. For attachment experiments,
    continuous cultivation in commercially available CDC Bioreactor was used. Antibacterial tests indicated
    higher attachment of gram-negative model bacterium Escherichia coli to NCD surface compared to uncoated
    glass. We assign this effect to higher roughness of NCD surface compared to glass. Bacterial cells preferred
    the hydrophobic surface of hydrogenated NCD surface to hydrophilic oxidized NCD for their attachment.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.