Počet záznamů: 1
Study of Cu+, Ag+ and Au+ ion implantation into silicate glasses
- 1.
SYSNO ASEP 0351912 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Study of Cu+, Ag+ and Au+ ion implantation into silicate glasses Tvůrce(i) Švecová, B. (CZ)
Nekvindová, P. (CZ)
Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Malinský, Petr (UJF-V) RID, ORCID, SAI
Kolitsch, A. (DE)
Machovič, V. (CZ)
Stara, S. (CZ)
Míka, M. (CZ)
Špirková, J. (CZ)Celkový počet autorů 9 Zdroj.dok. Journal of Non-Crystalline Solids. - : Elsevier - ISSN 0022-3093
Roč. 356, 44-49 (2010), s. 2468-2472Poč.str. 5 s. Akce XII International Conference on the Physics of Non-Crystalline Solids Datum konání 06.09.-09.09.2009 Místo konání Foz do Iguaçu, PR, Brazil Země BR - Brazílie Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova Ion implantation ; Silicate glasses ; Metal nanoparticles ; RBS Vědní obor RIV BG - Jaderná, atomová a mol. fyzika, urychlovače CEP LC06041 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA106/09/0125 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10480505 - UJF-V (2005-2011) UT WOS 000285282100038 DOI 10.1016/j.jnoncrysol.2010.03.031 Anotace A study of the ion implantation of Cu+, Ag+ or Au+ ions into different types of silicate glasses is reported. The energy of the implanted ions was 330 keV and the implantation fluence was kept at 11016 cm-2. The samples were characterised by various analytical methods: Rutherford Backscattering Spectrometry for the concentration depth profiles of the implanted atoms, Raman spectroscopy for the structure of the samples and also by UV-VIS absorption spectroscopy. The obtained data were evaluated on the bases of the structure of the glass matrix and the relations between the structural changes and optical properties, important for photonics applications, were formulated. The main focus was the impact of various types and concentrations of glass network modifiers (e.g. Li, Na, K, Mg, Ca or Zn) as well as glass network formers (Si, B) on the projected range of the implanted ions. Pracoviště Ústav jaderné fyziky Kontakt Markéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1