Počet záznamů: 1
Polydimethylsiloxane as protecting layer to improve the quality of patterns on graphene oxide
- 1.
SYSNO 0563456 Název Polydimethylsiloxane as protecting layer to improve the quality of patterns on graphene oxide Tvůrce(i) Cutroneo, Mariapompea (UJF-V) [ONF] ORCID, RID, SAI
Havránek, Vladimír (UJF-V) [ONF] RID, SAI, ORCID
Torrisi, L. (IT)
Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Malinský, Petr (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Fazio, B. (IT)
Slepička, P. (CZ)
Fajstavr, D. (CZ)
Silipigni, L. (IT)Korespondující/senior Cutroneo, Mariapompea - Korespondující autor Zdroj.dok. Vacuum. Roč. 204, OCT (2022). - : Elsevier Číslo článku 111353 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant EF16_013/0001812 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA22-10536S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova graphene oxide * Polydimethylsiloxane * ion lithography * deoxgenation * structural modification Spolupracující instituce Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem. Přírodovědecká fakulta (Česká republika)
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze (Česká republika)URL https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111353 Trvalý link https://hdl.handle.net/11104/0335413
Počet záznamů: 1