Počet záznamů: 1
Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H
- 1.
SYSNO ASEP 0540759 Druh ASEP A - Abstrakt Zařazení RIV O - Ostatní Název Possibilities of laser recrystallization and laser ablation in thin-layer structures based on a-Si:H Tvůrce(i) Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Kupčík, Jaroslav (FZU-D) ORCID
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Online, 2020 Poč.str. 22 s. Akce 4th BIATRI Workshop Datum konání 09.12.2020 - 10.12.2020 Místo konání Online Země CZ - Česká republika Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova CVD ; thin films ; a-Si:H ; nanoparticles Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) Vědní obor RIV – spolupráce Ústav chemických procesů - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GC19-02858J GA ČR - Grantová agentura ČR EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858 Anotace Our goal is to enhance optoelectronic properties and light conversion efficiency in hydrogenated silicon thin films by in-situ embedded nanoparticles using radio frequency chemical vapor deposition (RF CVD) combined with other methods such as molecular beam epitaxy, magnetron sputtering, Langmuir/Blodgett method, reactive deposition epitaxy, laser surface treatment, laser ablation, reactive laser ablation, vacuum evaporation and plasma treatment. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2021
Počet záznamů: 1