Počet záznamů: 1
Optical and structural properties of ZnO:Eu thin films grown by pulsed laser deposition
- 1.
SYSNO ASEP 0509471 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Optical and structural properties of ZnO:Eu thin films grown by pulsed laser deposition Tvůrce(i) Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
Marešová, Eva (FZU-D) ORCID
Fitl, Přemysl (FZU-D) RID, ORCID
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Pokorný, Petr (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Havlová, Šárka (FZU-D) ORCID
Abdellaoui, N. (FR)
Pereira, A. (FR)
Hubík, Pavel (FZU-D) RID, ORCID
More Chevalier, Joris (FZU-D) ORCID
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 12 Zdroj.dok. Applied Surface Science. - : Elsevier - ISSN 0169-4332
Roč. 476, May (2019), s. 271-275Poč.str. 5 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova pulsed laser deposition ; thin films ; zinc oxide ; Europium ; photoluminescence ; x-ray photoelectron spectroscopy Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP GA18-17834S GA ČR - Grantová agentura ČR LO1409 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000459458600030 EID SCOPUS 85059889855 DOI 10.1016/j.apsusc.2019.01.038 Anotace Eu doped ZnO thin films were deposited by pulsed laser deposition on fused silica substrate at room temperature and 300 °C in an oxygen ambient of pressure of 10 Pa. The films exhibited a wurtzite structure. The average transmittance exceeded 80% in the visible region confirming a good optical quality of the films. The characteristic emission of both Eu2+ and Eu3+ was observed when indirectly excited. The increase of substrate temperature to 300 °C led to higher crystallites size, lower efficiency of energy transfer from ZnO to Eu ions and lower resistivity of the film. XPS revealed the ratio of Eu divalent and trivalent states as 35%:65% and 27%:73% for sample deposited at room temperature and 300 °C, respectively. AFM showed higher RMS for the sample prepared at 300 °C. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2020 Elektronická adresa https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.01.038
Počet záznamů: 1