Laser system for measuring MEMS relief created by the method of deep reactive ion etching

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0498736
Název	Laser system for measuring MEMS relief created by the method of deep reactive ion etching
Tvůrce(i)	Maňka, Tadeáš (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Šerý, Mojmír (UPT-D)_{RID, SAI} Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Zemánek, Pavel (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Zdroj.dok.	21st Czech-Polish-Slovak Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics. (Proceedings of SPIE 10976). - Bellingham : SPIE, 2018 / Zemánek Pavel
Konference	Czech-Polish-Slovak Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics /21./, 03.09.2018 - 07.09.2018, Lednice
Číslo článku	109760M
Druh dok.	Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Grant	LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	laser interferometry * DRIE * MEMS * depth measuring
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0291094

Počet záznamů: 1