Počet záznamů: 1
Laser system for measuring MEMS relief created by the method of deep reactive ion etching
- 1.0498736 - ÚPT 2019 RIV US eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Maňka, Tadeáš - Šerý, Mojmír - Krátký, Stanislav - Zemánek, Pavel
Laser system for measuring MEMS relief created by the method of deep reactive ion etching.
21st Czech-Polish-Slovak Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics. (Proceedings of SPIE 10976). Bellingham: SPIE, 2018 - (Zemánek, P.), č. článku 109760M. ISBN 9781510626072. ISSN 0277-786X.
[Czech-Polish-Slovak Optical Conference on Wave and Quantum Aspects of Contemporary Optics /21./. Lednice (CZ), 03.09.2018-07.09.2018]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: laser interferometry * DRIE * MEMS * depth measuring
Obor OECD: Optics (including laser optics and quantum optics)
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0291094
Počet záznamů: 1