Počet záznamů: 1
Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO.sub.2./sub. layers
- 1.
SYSNO 0486979 Název Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers Tvůrce(i) Hippler, R. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Wulff, H. (DE)
Helm, C.A. (DE)
Straňák, V. (CZ)Zdroj.dok. Journal of Applied Physics. Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9. - : AIP Publishing Číslo článku 171906 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova HiPIMS * Langmuir probe * titanium dioxide * angular dependence * XRD * SEM Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0281685
Počet záznamů: 1