Počet záznamů: 1
Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO.sub.2./sub. layers
- 1.
SYSNO ASEP 0486979 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers Tvůrce(i) Hippler, R. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Wulff, H. (DE)
Helm, C.A. (DE)
Straňák, V. (CZ)Celkový počet autorů 7 Číslo článku 171906 Zdroj.dok. Journal of Applied Physics. - : AIP Publishing - ISSN 0021-8979
Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9Poč.str. 9 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova HiPIMS ; Langmuir probe ; titanium dioxide ; angular dependence ; XRD ; SEM Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech Obor OECD Fluids and plasma physics (including surface physics) CEP GA15-00863S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000400623700008 EID SCOPUS 85014518459 DOI 10.1063/1.4977823 Anotace Angular distribution measurements have been carried out during High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) of a titanium target and deposition of titanium and titanium oxide films. The HiPIMS system was operated at a repetition frequency f = 100 Hz with a duty cycle of 1%. Langmuir probe diagnostics has been carried out at a distance of 7.5 cm from the target at four different angles with respect to the surface normal of the target. Film properties were investigated by means of SEM, XR, and GIXD, and a dependence of film thickness and crystalline structure on the deposition angle is observed. Published by AIP Publishing. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2018
Počet záznamů: 1