Počet záznamů: 1
Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO.sub.2./sub. layers
SYS 0486979 LBL 01000a^^22220027750^450 005 20240103215639.5 014 $a 85014518459 $2 SCOPUS 014 $a 000400623700008 $2 WOS 017 70
$a 10.1063/1.4977823 $2 DOI 100 $a 20180221d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a US 200 1-
$a Angular dependence of plasma parameters and film properties during high power impulse magnetron sputtering for deposition of Ti and TiO2 layers 215 $a 9 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0256872 $1 011 $a 0021-8979 $e 1089-7550 $1 200 1 $a Journal of Applied Physics $v Roč. 121, č. 17 (2017), s. 1-9 $1 210 $c AIP Publishing 608 $a Article 610 $a HiPIMS 610 $a Langmuir probe 610 $a titanium dioxide 610 $a angular dependence 610 $a XRD 610 $a SEM 700 -1
$3 cav_un_auth*0224595 $a Hippler $b R. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Nízkoteplotní plazma $j Low-Temperature Plasma $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257508 $a Wulff $b H. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0312744 $a Helm $b C.A. $y DE 701 -1
$3 cav_un_auth*0221302 $a Straňák $b V. $y CZ
Počet záznamů: 1