Počet záznamů: 1  

SMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci

  1. 1.
    SYSNO0437396
    NázevSMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
    Překlad názvuSMV-2014-09: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization
    Tvůrce(i) Jákl, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Vyd. údajeBrno: Měřící technika Morava, s.r.o, 2014
    Druh dok.Výzkumná zpráva
    Grantneveřejné zdroje
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova two-photon photopolymerization * nanolitography * optical litography * holography
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0240986
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.