Počet záznamů: 1
SMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
- 1.
SYSNO 0437396 Název SMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci Překlad názvu SMV-2014-09: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization Tvůrce(i) Jákl, Petr (UPT-D) RID, ORCID, SAI Vyd. údaje Brno: Měřící technika Morava, s.r.o, 2014 Druh dok. Výzkumná zpráva Grant neveřejné zdroje Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova two-photon photopolymerization * nanolitography * optical litography * holography Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0240986
Počet záznamů: 1