Počet záznamů: 1  

Electrostatic assembly of alumina nanoparticles on nanocrystalline diamond films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0375024
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevElectrostatic assembly of alumina nanoparticles on nanocrystalline diamond films
    Tvůrce(i) Verveniotis, Elisseos (FZU-D) RID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Rezek, Bohuslav (FZU-D) RID, ORCID
    Zdroj.dok.WDS'11 Proceedings of Contributed Papers: Part III: Physics. - Praha : MATFYZPRESS, 2011 / Šafránková J. ; Pavlů J. - ISBN 978-80-7378-186-6
    Rozsah strans. 93-98
    Poč.str.6 s.
    AkceWDS 2011 - Annual Conference of Doctoral Students /20./
    Datum konání31.05.2011-03.06.2011
    Místo konáníPrague
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovaatomic force microscopy (AFM) ; Kelvin force microscopy (KFM) ; electrostatic charging ; self-assembly ; nanocrystalline diamond
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGD202/09/H041 GA ČR - Grantová agentura ČR
    LC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
    LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    GAP204/10/0212 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceWe apply atomic force microscope for local electrostatic charging of oxygen-terminated nanocrystalline diamond (NCD) thin films deposited on silicon, to induce electrostatically driven self-assembly of colloidal alumina nanoparticles into micro-patterns. The NCD films have sub-100 nm thickness and 60% relative sp2 phase content. We characterize charge contrast and stability in air, fluorocarbon oil and water by Kelvin force microscopy. We discuss factors influencing the charging process and demonstrate that the contrast of more than ± 1 V is needed to induce selfassembly of the nanoparticles via coulombic and polarization forces.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2012
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.