Počet záznamů: 1  

Growth and properties of InAs/In.sub.x./sub.Ga.sub.1-x./sub.As/GaAs quantum dot structures

  1. 1.
    SYSNO ASEP0308047
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JOstatní články
    NázevGrowth and properties of InAs/InxGa1-xAs/GaAs quantum dot structures
    Překlad názvuRůst a vlastnosti InAs/InxGa1-xAs/GaAs struktur s kvantovými tečkami
    Tvůrce(i) Hulicius, Eduard (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Oswald, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Pangrác, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Vyskočil, Jan (FZU-D) RID
    Hospodková, Alice (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kuldová, Karla (FZU-D) RID, ORCID
    Melichar, Karel (FZU-D)
    Šimeček, Tomislav (FZU-D)
    Zdroj.dok.Journal of Crystal Growth. - : Elsevier - ISSN 0022-0248
    Roč. 310, 7-9 (2008), s. 2229-2233
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovananostructures ; metalorganic vapor-phase epitaxy ; semiconducting III–V materials
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPKJB101630601 GA AV ČR - Akademie věd
    IAA100100719 GA AV ČR - Akademie věd
    GA202/06/0718 GA ČR - Grantová agentura ČR
    GA202/05/0242 GA ČR - Grantová agentura ČR
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    DOI10.1016/j.jcrysgro.2007.11.055
    AnotaceSingle- and double-layer InAs/GaAs quantum dot structures with strain-reducing layers (SRLs) were prepared by metalorganic vaporphase epitaxy using the Stranski–Krastanow growth mode. Structures were studied in-situ by reflectance anisotropy spectroscopy (RAS), and ex-situ by photoluminescence (PL). These structures, with very intense room temperature PL at wavelengths from 1.25 to 1.55 μm according to growth and structure parameters, were grown along while monitored with RAS. Strong correlation between RAS signal and PL intensity was found. Dependence of PL emission maximum position on SRL composition and capping layer thickness is shown.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2008
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.