Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film

Počet záznamů: 1

1.

SYSNO	0574018
Název	Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film
Tvůrce(i)	Romanenko, Oleksandr V. (UJF-V) [ONF]_{ORCID, SAI} Lavrentiev, Vasyl (UJF-V) [ONF]_{RID, ORCID, SAI} Borodkin, Andrei (URE-Y) Havránek, Vladimír (UJF-V) [ONF]_{RID, SAI, ORCID} Macková, Anna (UJF-V) [ONF]_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. Roč. 538, MAY (2023), s. 123-130. - : Elsevier
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	EF18_053/0017163 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Institucionální podpora	UJF-V - RVO:61389005 ; URE-Y - RVO:67985882
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	NL
Klíč.slova	PMMA shrinkage * Ion beam lithography * Microstructuring * Diffraction grating
URL	https://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.02.001
Trvalý link	https://hdl.handle.net/11104/0344381

Počet záznamů: 1