Počet záznamů: 1  

Comparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film

  1. 1.
    SYSNO ASEP0574018
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevComparison of PMMA shrinkage in ion beam lithography: PMMA on glass substrate vs free-standing PMMA film
    Tvůrce(i) Romanenko, Oleksandr V. (UJF-V) ORCID, SAI
    Lavrentiev, Vasyl (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Borodkin, Andrei (URE-Y)
    Havránek, Vladimír (UJF-V) RID, SAI, ORCID
    Macková, Anna (UJF-V) RID, ORCID, SAI
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.Nuclear Instruments & Methods in Physics Research Section B. - : Elsevier - ISSN 0168-583X
    Roč. 538, MAY (2023), s. 123-130
    Poč.str.8 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovaPMMA shrinkage ; Ion beam lithography ; Microstructuring ; Diffraction grating
    Obor OECDNuclear physics
    CEPEF18_053/0017163 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005 ; URE-Y - RVO:67985882
    UT WOS001027901300001
    EID SCOPUS85150335122
    DOI10.1016/j.nimb.2023.02.001
    AnotaceThe present work focuses on the shrinkage of PMMA films under irradiation and its application to the creation of optical devices. We prepared the free-standing PMMA films in four different thicknesses (13, 21, 32, and 43 & mu,m), and PMMA films of the same thickness, but deposited on a glass substrate. A diffraction grating was chosen as the optical device to show the applicability of the method. The study revealed that at a film thickness of 13-32 & mu,m, the shrinkage of the free-standing film increases proportionally to its thickness, while the film on the substrate does not have a pronounced dependence. Films with the thickness of 43 & mu,m do not follow this trend. It was found that under the same irradiation conditions, the film on the substrate shrinks more compared to the free-standing film. Interference patterns from the created diffraction gratings were shown to present spurious illumination areas.
    PracovištěÚstav jaderné fyziky
    KontaktMarkéta Sommerová, sommerova@ujf.cas.cz, Tel.: 266 173 228
    Rok sběru2024
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1016/j.nimb.2023.02.001
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.