Počet záznamů: 1  

SMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM

  1. 1.
    SYSNO ASEP0545142
    Druh ASEPV - Výzkumná zpráva
    Zařazení RIVV – výzkumná zpráva
    NázevSMV-2021-03: Vývoj testovacích preparátů pro REM
    Překlad názvuSMV-2021-03: Development of test specimens for SEM
    Tvůrce(i) Matějka, Milan (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Horáček, Miroslav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Chlumská, Jana (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Kolařík, Vladimír (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Krátký, Stanislav (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Vyd. údajeBrno: Tescan Brno, s.r.o., 2021
    Poč.str.6 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovarelief structure ; e-beam lithography ; silicon etching ; microlithography
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    Další zdrojneveřejné zdroje
    AnotaceVýzkum, vývoj a realizace rozměrově přesných vzorků s reliéfními strukturami. Vzorky jsou určeny pro kalibraci parametrů rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Motivy struktur umožňují kontrolu a kalibraci zvětšení, pravoúhlosti a geometrického zkreslení. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice a rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.
    Překlad anotaceResearch and development of accurate calibration samples with relief structures. The samples are intended for parameter calibration of scanning electron microscope (SEM). Testing patterns allow to check and calibrate magnification, orthogonality and geometric distortion. New tools for handling during technological operations of resist deposition and etching were developed. Optimization was reached in the process of transfer of the relief structure into silicon via anisotropic etching, due modification of etching apparatus. Standardized procedures for inspection and quality control were developed.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2022
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.