Počet záznamů: 1

Difraktivní optický element generující besselovské svazky s potlačením distribuce energie do vedlejších minim

SYSNO ASEP	0535780
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Difraktivní optický element generující besselovské svazky s potlačením distribuce energie do vedlejších minim
Překlad názvu	Diffractive optical element generating Bessel beams with suppression of energy distribution to lateral minima
Tvůrce(i)	Stoklasa, B. (CZ) Venos, Š. (CZ) Kuchařík, J. (CZ) Hopp, J. (CZ) Krátký, Stanislav (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Chlumská, Jana (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Kolařík, Vladimír (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Fořt, Tomáš (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Pokorný, Pavel (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Celkový počet autorů	9
Rok vydání	2020
Int.kód	APL-2020-03
Technické parametry	Fázový difrakční optický element připravený v materiálu fused silica sloužící ke korekci vstupního Besselovského svazku
Ekonomické parametry	Funkční vzorek realizovaný při řešení grantu s předpokladem smluvního využití s ekonomickým přínosem i po jeho ukončení. Kontakt: Ing. Stanislav Krátký, kratky@isibrno.cz
Název vlastníka	Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
IČ vlastníka	68081731
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Požad. na licenč. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Číselná identifikace	APL-2020-03
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	Bessel beam reactive ion etching ; diffractive optical element ; e–beam lithography ; reactive ion etching
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
Obor OECD	Optics (including laser optics and quantum optics)
CEP	FV40197 GA MPO - Ministerstvo průmyslu a obchodu
Institucionální podpora	UPT-D - RVO:68081731
Anotace	Binární fázový difrakční optický element byl navržen pro korekci/potlačení postranních maxim Besselovského svazku. Vzorek byl připraven pomocí metody reaktivního iontového leptání do skla přes kovovou masku.
Překlad anotace	Binary phase diffractive optical element was designed for the purpose of correction/suppression of Bessel beam side peaks. The sample was fabricated by the way of reactive ion etching of glass substrate over the metal mask.
Pracoviště	Ústav přístrojové techniky
Kontakt	Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
Rok sběru	2021

Počet záznamů: 1