Počet záznamů: 1
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold
- 1.
SYSNO ASEP 0497873 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold Tvůrce(i) Makhotkin, I.A. (NL)
Milov, I. (NL)
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Tiedtke, K. (DE)
Enkisch, H. (DE)
de Vries, G. (NL)
Scholze, F. (DE)
Siewert, F. (DE)
Sturm, J.M. (NL)
Nikolaev, K. (NL)
van de Kruijs, R.W.E. (NL)
Smithers, M.A. (NL)
van Wolferen, H.A.G.M. (NL)
Keim, E.G. (NL)
Louis, E. (NL)
Jacyna, I. (PL)
Jurek, M. (PL)
Klinger, D. (PL)
Pelka, J. B. (PL)
Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Vozda, Vojtěch (FZU-D) ORCID
Burian, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID
Saksl, Karel (FZU-D)
Faatz, B. (DE)
Keitel, B. (DE)
Ploenjes, E. (DE)
Schreiber, S. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Loch, R. (DE)
Hermann, M. (DE)
Strobel, S. (DE)
Donker, R. (NL)
Mey, T. (DE)
Sobierajski, R. (PL)Celkový počet autorů 35 Zdroj.dok. Journal of the Optical Society of America. B. - : Optical Society of America - ISSN 0740-3224
Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805Poč.str. 7 s. Forma vydání Tištěná - P Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova interaction of femtosecond XUV pulses ; single-shot ablation threshold ; damage accumulation in thin ruthenium films Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP GA17-05167s GA ČR - Grantová agentura ČR LG15013 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GA14-29772S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000448941700021 EID SCOPUS 85056121487 DOI 10.1364/JOSAB.35.002799 Anotace The process of damage accumulation in thin ruthenium films exposed to multiple femtosecond extreme ultraviolet (XUV) free-electron laser (FEL) pulses below the critical angle of reflectance at the FEL facility in Hamburg (FLASH) was experimentally analyzed. The multi-shot damage threshold is found to be lower than the single-shot damage threshold. Detailed analysis of the damage morphology and its dependence on irradiation conditions justifies the assumption that cavitation induced by the FEL pulse is the prime mechanism responsible for multi-shot damage in optical coatings. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2019
Počet záznamů: 1