Počet záznamů: 1  

Influence of gas chemistry on Si-V color centers in diamond films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0454703
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevInfluence of gas chemistry on Si-V color centers in diamond films
    Tvůrce(i) Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Varga, Marián (FZU-D) RID, ORCID
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Physica Status Solidi B : Basic Solid State Physics. - : Wiley - ISSN 0370-1972
    Roč. 252, č. 11 (2015), s. 2580-2584
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.DE - Německo
    Klíč. slovachemical vapor deposition ; diamond ; photoluminescence ; plasma ; silicon optical centers
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGA14-04790S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000364690400038
    EID SCOPUS84946423209
    DOI10.1002/pssb.201552222
    AnotaceWe studied the influence of process parameters on the incorporation and optical activity of the silicon vacancy (Si-V) zero phonon line (ZPL) in diamond films. The ZPL intensity at 738nm is studied in nano- and micro-crystalline diamond films deposited by MWCVD as a function of a substrate temperature, gas composition, i.e. CO2 and N2 concentrations in the gas mixture. We found that the ZPL intensity of Si-V center is independent in a broad deposition temperature range from 450°C to 1100°C with a full width of half maxima (FWHM) of 6 nm. For the lowest deposition temperature (350°C), the ZPL intensity decreases and the FWHM doubles. The Si-V center ZPL vanished for admixtures of 1% CO2 or 2.5% of N2 and higher in the gas mixture. For smaller concentrations, the ZPL intensity gradually decreased while keeping the ZPL peak position and FWHM constant. The influence of CO2 and N2 addition on the diamond morphology is also discussed with respect to the presence of Si-V centers.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.