Počet záznamů: 1
Preparation of CIGS thin films by HiPIMS or DC sputtering and various selenization processes
SYS 0397887 LBL 03156^^^^^2200445^^^450 005 20240103203143.9 014 $a 000322719200014 $2 WOS 014 $a 84881502019 $2 SCOPUS 100 $a 20140204d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng 102 $a CA 200 1-
$a Preparation of CIGS thin films by HiPIMS or DC sputtering and various selenization processes 215 $a 6 s. 300 $a DOI nezjištěno 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0258341 $1 011 $a 1203-8407 $1 200 1 $a Journal of Advanced Oxidation Technologies $v Roč. 16, č. 2 (2013), s. 314-319 610 0-
$a CIGS 610 0-
$a HIPIMS 610 0-
$a selenization 610 0-
$a nanocrystals 610 0-
$a solar energy 610 0-
$a sputtering 610 0-
$a thin films 700 -1
$3 cav_un_auth*0098251 $a Olejníček $b Jiří $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100245 $a Hubička $b Zdeněk $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0289739 $a Kšírová $b Petra $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0234460 $a Kment $b Štěpán $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0295325 $a Brunclíková $b Michaela $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0245576 $a Kohout $b Michal $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0100168 $a Čada $b Martin $i Vlnové a částicové šíření světla, optické technologie a materiály $j Wave and corpuscular light propagation, optical technologies and materials $p FZU-D $w Low-Temperature Plasma $4 070 $T Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0257502 $a Darveau $b S.A. $y US $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0257503 $a Exstrom $b C.L. $y US $4 070 856 $u http://www.ingentaconnect.com/content/stn/jaots/2013/00000016/00000002/art00015
Počet záznamů: 1