Počet záznamů: 1
Influence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation
SYS 0308150 LBL 02944^^^^^2200337^^^450 005 20240103190038.5 014 $a 000253177800036 $2 WOS 017 7-
$a 10.1088/0022-3727/41/3/035213 $2 DOI 100 $a 20080528d m y slo 03 ba 101 0-
$a eng $d eng 102 $a GB 200 1-
$a Influence of substrate material on plasma in deposition/sputtering reactor: experiment and computer simulation 215 $a 8 s. 463 -1
$1 001 cav_un_epca*0257167 $1 011 $a 0022-3727 $e 1361-6463 $1 200 1 $a Journal of Physics D-Applied Physics $v Roč. 41, č. 3 (2008), 035213:1-8 $1 210 $c Institute of Physics Publishing 541 1-
$a Vliv vzorku na plazma v depozičním/odprašovacím reaktoru: experiment a počítačová simulace $z cze 610 0-
$a r. f. plasma 610 0-
$a computer simulation 610 0-
$a secondary electron emision 610 0-
$a plasma deposition 610 0-
$a plasma sputtering 700 -1
$3 cav_un_auth*0235708 $a Brzobohatý $b Oto $p UPT-D $w Microphotonics $4 070 $T Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i. 701 -1
$3 cav_un_auth*0015844 $a Buršíková $b V. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0014953 $a Nečas $b D. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0219169 $a Valtr $b M. $y CZ $4 070 701 -1
$3 cav_un_auth*0049733 $a Trunec $b D. $y CZ $4 070
Počet záznamů: 1