Počet záznamů: 1
Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0133760 Název Composition, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering Tvůrce(i) Shaginyan, L. R. (UA)
Mišina, Martin (FZU-D)
Zemek, Josef (FZU-D) RID, ORCID
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Regent, F. (CZ)
Britun, V. F. (UA)Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 408, - (2002), s. 136-147. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GV106/96/K245 GA ČR - Grantová agentura ČR GA106/99/D086 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z1010914 - FZU-D Jazyk dok. eng Země vyd. NL Klíč.slova hardness * sputtering * nitrides * alloys Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0031719
Počet záznamů: 1