Počet záznamů: 1
Growth of carbon allotropes in plasma CVD system
- 1.
SYSNO ASEP 0559036 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Growth of carbon allotropes in plasma CVD system Tvůrce(i) Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Babčenko, Oleg (FZU-D) ORCID
Izsák, Tibor (FZU-D) ORCID
Varga, Marián (FZU-D) RID, ORCID
Vanko, G. (SK)
Zehetner, J. (AT)
Potocký, Štěpán (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Proceedings of ADEPT - ADEPT 2022. - Žilina : University of Žilina, 2022 / Feiler M. ; Ziman M. ; Kováčová S. ; Kováč, jr. J. - ISBN 978-80-554-1884-1 Rozsah stran s. 17-20 Poč.str. 5 s. Forma vydání Tištěná - P Akce 10th International Conference on Advances in Electronic and Photonic Technologies - ADEPT 2022 Datum konání 20.06.2022 - 24.06.2022 Místo konání Tatranská Lomnica Země SK - Slovensko Typ akce EUR Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. SK - Slovensko Klíč. slova diamond ; carbon allotropes ; carbon nanotubes ; dual plasma Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Materials engineering CEP 8X20035 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LM2018110 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace Various carbon (nano-) forms, so-called allotropes, have become one of the most supporting activities in fundamental and applied research trends. Therefore, a universal deposition process capable of “adjusting” system parameters in one “deposition chamber” is highly demanding. Here, we present a low-pressure large area deposition system combining radiofrequency (RF) and microwave (MW) plasma in one chamber in different configurations, which offers a wide deposition window for the growth of sp2 carbon (carbon nanotubes, amorphous carbon), a mixture of sp2 and sp3 (diamond-like films) and pure sp3 carbon represented by diamond films. We will show that not only the type of plasma source (RF vs. MW) but also the gas mixture and plasma chemistry are crucial parameters for the controllable and reproducible growth of these allotropes at temperatures from 250 to 800 °C. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2023
Počet záznamů: 1