Počet záznamů: 1  

Oxidation of amorphous HfNbTaTiZr high entropy alloy thin films prepared by DC magnetron sputtering

  1. 1.
    SYSNO0542816
    NázevOxidation of amorphous HfNbTaTiZr high entropy alloy thin films prepared by DC magnetron sputtering
    Tvůrce(i) Hruška, Petr (FZU-D) ORCID
    Lukáč, František (UFP-V) [MI] ORCID
    Cichoň, Stanislav (FZU-D) RID, ORCID
    Vondráček, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Čížek, J. (CZ)
    Fekete, Ladislav (FZU-D) RID, ORCID
    Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
    Veselý, J. (CZ)
    Minárik, P. (CZ)
    Cieslar, M. (CZ)
    Melikhova, O. (CZ)
    Kmječ, T. (CZ)
    Liedke, M.O. (DE)
    Butterling, M. (DE)
    Wagner, A. (DE)
    Korespondující/seniorHruška, Petr - Korespondující autor
    Zdroj.dok. Journal of Alloys and Compounds. Roč. 869, July (2021). - : Elsevier
    Číslo článku157978
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant GA17-17016S GA ČR - Grantová agentura ČR
    CZ.02.1.01/0.0/0.0/16_019/0000760, XE - země EU
    EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271 ; UFP-V - RVO:61389021
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.NL
    Klíč.slova high entropy alloys * HfNbTaTiZr * magnetron sputtering * x-ray photoelectron spectroscopy * positron annihilation spectroscopy
    URLhttps://doi.org/10.1016/j.jallcom.2020.157978
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0320208
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.