Počet záznamů: 1
Ion irradiation-induced localized stress relaxation in W thin film revealed by cross-sectional X-ray nanodiffraction
- 1.
SYSNO 0541788 Název Ion irradiation-induced localized stress relaxation in W thin film revealed by cross-sectional X-ray nanodiffraction Tvůrce(i) Hlushko, K. (AT)
Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Zálešák, J. (AT)
Burghammer, M. (FR)
Davydok, A. (DE)
Krywka, C. (DE)
Daniel, R. (AT)
Keckes, J. (AT)
Todt, J. (AT)Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 722, MAR (2021). - : Elsevier Číslo článku 138571 Druh dok. Článek v odborném periodiku Institucionální podpora UJF-V - RVO:61389005 Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova Tungsten thin film * Ion irradiation * residual stress Spolupracující instituce Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem (Česká republika) URL https://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138571 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0319321
Počet záznamů: 1