Počet záznamů: 1  

Ion irradiation-induced localized stress relaxation in W thin film revealed by cross-sectional X-ray nanodiffraction

  1. 1.
    SYSNO0541788
    NázevIon irradiation-induced localized stress relaxation in W thin film revealed by cross-sectional X-ray nanodiffraction
    Tvůrce(i) Hlushko, K. (AT)
    Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
    Zálešák, J. (AT)
    Burghammer, M. (FR)
    Davydok, A. (DE)
    Krywka, C. (DE)
    Daniel, R. (AT)
    Keckes, J. (AT)
    Todt, J. (AT)
    Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 722, MAR (2021). - : Elsevier
    Číslo článku138571
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Institucionální podporaUJF-V - RVO:61389005
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.CH
    Klíč.slova Tungsten thin film * Ion irradiation * residual stress
    Spolupracující instituce Univerzita Jana Evangelisty Purkyně v Ústí nad Labem (Česká republika)
    URLhttps://doi.org/10.1016/j.tsf.2021.138571
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0319321
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.