Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

Makhotkin, I.A.; Milov, I.; Chalupský, J.; Tiedtke, K.; Enkisch, H.; de Vries, G.; Scholze, F.; Siewert, F.; Sturm, J.M.; Nikolaev, K. V.; van de Kruijs, R.W.E.; Smithers, M.A.; van Wolferen, H.A.G.M.; Keim, E.G.; Louis, E.; Jacyna, I.; Jurek, M.; Klinger, D.; Pełka, J.B.; Juha, Libor; Hájková, V.; Vozda, V.; Burian, Tomáš; Saksl, K.; Faatz, B.; Keitel, B.; Plönjes, E.; Schreiber, S.; Toleikis, S.; Loch, R.; Hermann, M.; Strobel, S.; Donker, R.; Mey, T.; Sobierajski, R.

doi:https://dx.doi.org/10.1364/JOSAB.35.002799

Počet záznamů: 1

Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

1.

SYSNO	0503529
Název	Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold
Tvůrce(i)	Makhotkin, I.A. (NL) Milov, I. (NL) Chalupský, J. (CZ) Tiedtke, K. (DE) Enkisch, H. (DE) de Vries, G. (NL) Scholze, F. (DE) Siewert, F. (DE) Sturm, J.M. (NL) Nikolaev, K. V. (RU) van de Kruijs, R.W.E. (NL) Smithers, M.A. (NL) van Wolferen, H.A.G.M. (NL) Keim, E.G. (NL) Louis, E. (NL) Jacyna, I. (PL) Jurek, M. (PL) Klinger, D. (PL) Pełka, J.B. (PL) Juha, Libor (UFP-V) [LP]_ORCID Hájková, V. (CZ) Vozda, V. (CZ) Burian, Tomáš (UFP-V) [LP]_ORCID Saksl, K. (SK) Faatz, B. (DE) Keitel, B. (DE) Plönjes, E. (DE) Schreiber, S. (DE) Toleikis, S. (DE) Loch, R. (DE) Hermann, M. (DE) Strobel, S. (DE) Donker, R. (NL) Mey, T. (DE) Sobierajski, R. (NL)
Zdroj.dok.	Journal of the Optical Society of America. B. Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805. - : Optical Society of America
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	654148, XE - země EU
	LM2015083 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	LTT17015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	EF16_013/0001552 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	GPP205/11/P712 GA ČR - Grantová agentura ČR
Institucionální podpora	UFP-V - RVO:61389021
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	interaction of femtosecond XUV pulses * single-shot ablation threshold * damage accumulation in thin ruthenium films
Spolupracující instituce	MESA Institute for Nanotechnology (Nizozemsko) Deutsche Elektronen-Synchrotron (Německo) Carl Zeiss (Německo) ASML Netherlands BV (Nizozemsko) Physikalisch-Technische Bundesanstalt (Německo) Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie (HZB) (Německo) Institute of Physics of the Polish Academy of Sciences (Polsko) Laser-Laboratorium Göttingen e.V. (Německo)
URL	https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0295348

Počet záznamů: 1