Počet záznamů: 1
Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold
- 1.
SYSNO ASEP 0503529 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold Tvůrce(i) Makhotkin, I.A. (NL)
Milov, I. (NL)
Chalupský, J. (CZ)
Tiedtke, K. (DE)
Enkisch, H. (DE)
de Vries, G. (NL)
Scholze, F. (DE)
Siewert, F. (DE)
Sturm, J.M. (NL)
Nikolaev, K. V. (RU)
van de Kruijs, R.W.E. (NL)
Smithers, M.A. (NL)
van Wolferen, H.A.G.M. (NL)
Keim, E.G. (NL)
Louis, E. (NL)
Jacyna, I. (PL)
Jurek, M. (PL)
Klinger, D. (PL)
Pełka, J.B. (PL)
Juha, Libor (UFP-V) ORCID
Hájková, V. (CZ)
Vozda, V. (CZ)
Burian, Tomáš (UFP-V) ORCID
Saksl, K. (SK)
Faatz, B. (DE)
Keitel, B. (DE)
Plönjes, E. (DE)
Schreiber, S. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Loch, R. (DE)
Hermann, M. (DE)
Strobel, S. (DE)
Donker, R. (NL)
Mey, T. (DE)
Sobierajski, R. (NL)Celkový počet autorů 35 Zdroj.dok. Journal of the Optical Society of America. B. - : Optical Society of America - ISSN 0740-3224
Roč. 35, č. 11 (2018), s. 2799-2805Poč.str. 7 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova interaction of femtosecond XUV pulses ; single-shot ablation threshold ; damage accumulation in thin ruthenium films Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery Obor OECD Optics (including laser optics and quantum optics) CEP LM2015083 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LTT17015 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy EF16_013/0001552 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy GPP205/11/P712 GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora UFP-V - RVO:61389021 UT WOS 000448941700021 EID SCOPUS 85056121487 DOI 10.1364/JOSAB.35.002799 Anotace The process of damage accumulation in thin ruthenium films exposed to multiple femtosecond extreme ultraviolet (XUV) free-electron laser (FEL) pulses below the critical angle of reflectance at the FEL facility in Hamburg(FLASH) was experimentally analyzed. The multi-shot damage threshold is found to be lower than the single-shotdamage threshold. Detailed analysis of the damage morphology and its dependence on irradiation conditionsjustifies the assumption that cavitation induced by the FEL pulse is the prime mechanism responsible formulti-shot damage in optical coatings. Pracoviště Ústav fyziky plazmatu Kontakt Vladimíra Kebza, kebza@ipp.cas.cz, Tel.: 266 052 975 Rok sběru 2019 Elektronická adresa https://www.nature.com/articles/s41598-018-36176-8
Počet záznamů: 1